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半导体超纯水设备_超纯水设备供应商_常州水处理设备有限公司
半导体清洗超纯水设备制备工艺：
1、超纯水设备预处理系统→反渗透系统→中间水箱→复床→混床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
2、超纯水设备预处理→双级反渗透系统→中间水箱→增压泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
3、超纯水设备预处理→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）
4、超纯水设备预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→混床→抛光混床→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）
超纯水设备应用场合：
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗超纯水设备；
2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液；
3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水超纯水设备；
4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
5、超纯水设备液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制超纯水设备；
